干貨分享 | 半導體行業對電子級超純水的要求有多嚴格？

水分子H₂O，占地表面積的70%，是人類能夠生存在地球上的最重要因素之一。我們日常所使用的水可能來源于海水、河水、湖水、雨水、地下水等，經過凈化后得以使用。隨著科技工業的發展，水質在科技工業上的應用要求也愈發嚴苛，甚至遠超我們日常飲用的飲用水及包裝水的標準，有的高達數十倍到百倍以上。

科技工業對水質的要求因其應用領域而異。不同科技領域根據生產過程中水質對產品的影響，制定了不同的水質標準，允許的雜質種類和濃度也各不相同。

半導體制程與超純水
在半導體制造領域，對水質的要求尤為嚴格。為了滿足這種嚴苛的水質要求，半導體制造業所使用的水被稱為電子級水或超純水。這種水中幾乎不允許存在任何雜質，包括但不限于顆粒、金屬、離子、有機物和細菌等。為了達到如此嚴格的水質要求，在制造超純水的工藝上必須十分精細，以去除各種雜質。

如何制備超純水？
超純水的制造工藝通常包括以下幾種：

• 預處理設備
• 軟水器
• 反滲透主機
• 185nm UV燈
• 活性炭塔
• RO 儲水箱
• 離子交換混床設備或EDI設備
• 純化儲水箱箱
• 254nm UV 燈
• 微孔過濾器 (超濾膜)

超純水水質標準
在半導體行業中，常用的水質標準包括：

• GB/T 11446-2013 電子級水標準
• GB/T 33087-2016 儀器分析用高純水規格及試驗方法
• GB/T 6682-2008/ ISO 3696分析實驗室用水規格和試驗方法
• ASTM D1193-06(2018)  試劑水標準規范
• ASTM D5127-07 電子學和半導體工業用超純水標準指南
• SEMI F63:2021 Guide for Ultrapure Water Used in Semiconductor Processing

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