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| SGS硅材、靶材和稀土材料純度測(cè)試 | |
| ■ 配備高端潔凈室、分析儀器 |
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| ■ 先進(jìn)檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)和系統(tǒng) | |
| ■ 專業(yè)檢測(cè)工程師 | |
硅材是重要的半導(dǎo)體材料,化學(xué)元素符號(hào)Si,半導(dǎo)體工業(yè)上使用的硅應(yīng)具有高純度和優(yōu)良的電學(xué)和機(jī)械等性能。
硅材一般以多晶硅或單晶硅存在,用于芯片制造之前會(huì)通過(guò)拉晶,切片等工藝制成硅片,硅材的純度,雜質(zhì)的含量對(duì)最終晶圓的質(zhì)量起決定性影響。
靶材,定義為靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,材料通過(guò)濺射到不同的基體,形成特定電性質(zhì),物理性質(zhì)的金屬膜材料,在半導(dǎo)體晶圓制造中,200mm( 8寸)及以下晶圓制造通常以鋁制程為主,使用的靶材以鋁、鈦元素為主。300mm( 12寸)晶圓制造,多使用先進(jìn)的銅互連技術(shù),主要使用銅、鉭靶材。
靶材的純度,直接影響半導(dǎo)體制程和產(chǎn)品的良率。
稀土材料,約占36%儲(chǔ)藏在中國(guó)。稀土金屬,稀有金屬和稀散金屬組成了三稀金屬,應(yīng)用在工業(yè)領(lǐng)域的各個(gè)方面,尤其是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。比如第二代半導(dǎo)體材料砷化鎵,碲化銦,第三代半導(dǎo)體材料氮化鎵等,稀土金屬也被用作拋光材料,氧化鈰是拋光粉最常用的材料,在半導(dǎo)體靶材領(lǐng)域,相當(dāng)一部分採(cǎi)用的是鉭靶、鉬靶、鎢靶等為主。
稀土材料在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用上, 純度要求與不純物的管控相當(dāng)重要。
SGS配備高端潔凈室、高端分析儀器(半導(dǎo)體專業(yè)配置的ICP/MS),引進(jìn)世界先進(jìn)檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)和系統(tǒng),以及檢測(cè)工程師,提供針對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)用硅材和靶材提供成分和雜質(zhì)的測(cè)定服務(wù)。
● 硅材痕量金屬含量測(cè)定-ICP/MS法
● 硅材痕量金屬含量測(cè)定-GD/MS法
● 靶材雜質(zhì)痕量金屬測(cè)定-ICP/MS法
● 靶材雜質(zhì)痕量金屬測(cè)定-GD/MS法
● 稀土材料痕量金屬含量測(cè)定-ICP/MS法
● 稀土材料痕量金屬含量測(cè)定-GD/MS法
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