干貨分享 | “嬌氣”的光刻機，買了應該怎么擺？

在半導體制程中，光刻工藝是核心環節，而光刻膠與光刻機則是光刻工藝中的兩大技術門檻。盡管國內設備廠商正在努力研發，但目前大部分光刻機技術仍依賴于國外品牌。光刻機在市場上非常搶手，但即便擁有光刻機，也不能隨意在FAB（晶圓廠）中擺放。

光刻機為什么不能隨意擺放？
光刻機的精密操作對環境潔凈度有著近乎苛刻的要求。光刻機在進行光刻工藝時，對環境中的分子污染物（AMC）極其敏感。即使是微小的雜質，也可能對光刻過程造成嚴重影響。
以荷蘭某大廠的光刻機為例，就明確要求安裝光刻機的廠商在其環境與使用的壓縮氣體中不能含有酸性物質、堿性物質、氨氣、硫化物、沉降型有機物質與非沉降型有機物質等雜質。
在SEMI F21無塵室環境分子污染物分級標準中，也明確規定了酸性物質、堿性物質、沉降型有機物質、參雜性物質與金屬顆粒等雜質的控制要求。同時，ISO14644潔凈室和相關受控環境潔凈室標準中的第8部分，更是用化學濃度（ACC）來評估空氣清潔度，從而規范了潔凈室中這些氣態雜質對制程的影響性。

隨著半導體晶圓越來越微小化和平面顯示器尺寸巨大化，制程產品正面臨微量污染物的嚴重威脅。因此，對于無塵室生產環境的潔凈度要求也越來越嚴格和重要。雖然目前AMC（空氣分子污染物）的污染濃度并未與潔凈室等級形成直接關系，但其對制程的影響卻是不容忽視的。

如何進行潔凈室AMC測試？
在潔凈室AMC（空氣污染物控制）測試中，通常使用空氣采樣器和氣相色譜質譜儀等儀器進行分析和測量。常見的潔凈室AMC污染物包括有機化合物、氣體污染物（如氮氧化物、硫化物）和有害氣體（如臭氧）。測試結果可以與行業標準和規范進行比較，以確定是否符合要求。因此，潔凈室AMC測試是潔凈室管理中的重要一環，有助于確保潔凈室環境的全面控制和達到所需的潔凈度水平。

AMC的種類有哪些？

如何解決潔凈室空氣質量問題？

SGS提供多種潔凈室AMC檢測服務模式：

• 委托SGS樣品采集分析：客戶沒有現場采樣設備及采樣經驗，可以委托SGS到現場進行采樣與分析，避免采樣過程中的失誤和污染。
• 自行樣品采集后委托SGS分析：SGS協助客戶建立采樣能力，優化時間和成本。
• 樣品采集打包方案：SGS提供采樣設備租借、采樣教育訓練課程和采樣能力建置打包方案，以滿足不同客戶的需求。

SGS潔凈室AMC檢測服務項目：

• MA、MB酸性與堿性空降分子污染采樣與分析
• MC可沉降物質及有機氣體分子采樣與分析
• MD參雜性空降分子污染采樣與分析
• MM金屬空降分子污染采樣與分析
• 硫化物分子污染采樣與分析
• 高效濾網及化學濾網過濾效率分析
• AMC污染解決方案